웨이퍼 확산, 에칭, 증착 및 이온 주입과 같은 핵심 공정 전반에 걸쳐 사용되는 주요 기본 재료로서 고순도알루미나 세라믹 튜브(Al₂O₃)는 초고순도, 고온 저항성, 우수한 절연성 및 내식성을 포함한 4가지 핵심적인 우수 특성을 지니고 있으며, 반도체 및 전자 산업의 국산화 추진 속에서 시장 수요가 급증하고 있습니다.
1. 탁월한 성능은 반도체 공정의 핵심적인 문제점을 해결합니다.
반도체 제조 현장의 고온, 고부식성, 초청정 및 고절연 환경은 재료에 매우 엄격한 요구 사항을 부과하며, 고순도 소재가 필수적입니다.알루미나 세라믹 튜브이러한 핵심 요구 사항을 완벽하게 충족합니다.
미세 오염 물질을 제거하는 초고순도 제품입니다.
반도체 등급알루미나 세라믹 튜브일반적으로 99.5%~99.99%의 순도를 달성하며, Na, Fe, K와 같은 금속 불순물 함량이 낮고, 유리 SiO₂ 침전물이 없어 원료로부터의 이온 오염을 효과적으로 방지합니다.
고온 및 열충격 저항성이 뛰어나 극한 작업 환경에 적합합니다.
이 소재는 융점이 최대 2050℃에 달하며, 1600℃에서 장시간 안정적으로 사용할 수 있고, 단시간 내에는 1800℃의 극고온에도 견딜 수 있습니다. 또한 열팽창 계수가 낮아 800℃의 급격한 온도 변화에도 균열이나 변형이 발생하지 않으므로 확산, 어닐링, 증착 등의 고온 공정에 매우 적합합니다.
최상의 절연 성능과 고주파 안정성으로 회로 안전을 보장합니다.
이 소재는 상온에서 10¹⁴~10¹⁶Ω·cm의 체적 저항률을 가지며, 고온에서도 안정적인 절연 성능을 유지합니다. 고전압 전극을 절연하고 전류 누설을 방지할 수 있습니다. 9.1~10.3의 안정적인 유전 상수와 극히 낮은 유전 손실을 특징으로 하며, 칩 정밀도에 영향을 미치는 전자기 간섭을 방지하여 고주파 및 마이크로파 응용 분야에 효과적으로 적합합니다.
높은 경도와 내마모성, 그리고 뛰어난 내식성으로 긴 수명을 보장합니다.
모스 경도 9등급으로 다이아몬드 다음으로 높은 경도를 자랑하는 이 소재는 탁월한 내마모성을 제공하며 생산 공정 중 분진이 발생하지 않습니다. 98% 농축 황산, 40% 불산은 물론 불소 및 염소 기반 플라즈마에 대한 내식성도 뛰어납니다. 수명은 스테인리스강 파이프보다 8배 이상 길어 장비 유지 보수 비용을 크게 절감해 줍니다.
2. 반도체 및 전자 산업의 핵심 시나리오를 포괄하는 전체 프로세스 애플리케이션
웨이퍼 제조 및 고온 공정:확산로 및 어닐링로의 반응관, 보호관, 노관으로 사용됩니다.
에칭 및 이온 주입 공정:에칭 기계의 노즐, 내부 라이닝 튜브 및 포커스 링으로 사용됩니다.
전자 및 광통신 응용 분야:고전압 전자 장비에서 절연 지지 튜브 및 진공 차단기 외피로 사용되었습니다.
3. 산업 동향: 고순도, 고정밀도 및 맞춤 제작
지속적인 순도 향상:99.5%에서 99.99%의 초고순도로 발전하여 불순물 침전이 거의 발생하지 않도록 함으로써 2nm 및 첨단 제조 공정에 적응했습니다.
정밀도가 극적으로 향상됨:이 제품은 Ra0.02μm(의료용 등급 연마)의 표면 조도를 달성하고 마이크론 수준으로 치수 공차를 제어하여 진공 밀봉 및 정밀 조립에 필요한 요구 사항을 충족합니다.
맞춤형 솔루션의 대중화:이중 구멍, 얇은 벽, 하단 밀봉형과 같은 특수 구조는 에칭, 증착 및 이온 주입을 포함한 다양한 공정에 맞게 맞춤 제작하여 다양한 작업 조건에 적응할 수 있습니다.
